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ANALYZER 低浓度氧化锆氧传感器TB-II.F-P介绍


ANALYZER 低浓度氧化锆氧传感器TB-II.F-P介绍


    TB-II.F-P 是(DAIICHI NEKKEN)Eco Azet TB-II.F系列中的一款分离型(分体式)低浓度氧传感器。它并非独立仪器,必须与专用控制单元(如C-28C、C-201W等)组合,才能构成完整的氧气分析系统并发挥功能

  • 超宽量程,精准测量:支持从1ppm的微量氧到100% 高浓度氧的测量。与不同控制器搭配,测量下限可扩展至0.1ppm,或超低氧分压1×10⁻³⁰ atm

  • 坚固耐用,适应性强

    • 抗腐蚀:氧化锆传感器采用多层保护结构,可耐受HCL(氯化氢)和SOx(硫氧化物) 等腐蚀性气体的侵蚀

    • 抗干扰:不易受样品流速影响,可在0.2至5L/min的宽流速范围内稳定测量

  • 设计精巧,维护简便:结构简单,支持通过样品气体压入或泵抽吸两种方式采样

详细技术规格 (TB-II.F-P)

  • 测量原理:稳定化氧化锆陶瓷

  • 测量范围:1ppm ~ 100% O₂

  • 线性/重复性:±1% FS 或 ±1ppm 以内 (取较大值)

  • 响应速度:90%响应时间 < 10秒(向高浓度侧变化时)

  • 漂移:±2% FS/周 以内

  • 采样流量0.2 ~ 2 L/min

  • 样品温度:*高 300℃

  • 样品压力:203 kPa ~ 1.33×10⁻¹ Pa (2 atm ~ 10⁻³ Torr)

  • 气体接口Rc 1/8 内螺纹

  • 预热时间:约 20 分钟

型号 气体接口 典型应用场景
TB-II.F-P Rc 1/8 内螺纹 小流量、洁净气体管路
TB-II.F-R Rc 1/4 内螺纹 通用工业管路
TB-II.F-S O.D. 3/8″ Swagelok 接头 需快速连接/断开的实验室或设备
TB-II.F-V 4VCR 接头 对泄漏率要求高的真空或超纯气系统

 典型应用

  • 电子与半导体:用于氮气回流焊炉CVD/PVD扩散炉等设备的气氛控制,防止氧化

  • 工业气体氮气发生器(PSA)空分设备的纯度监测

  • 热处理与冶金真空炉钢铁加热炉等工艺中的氧含量监控

  • 化工与环保:化工反应过程监测、废气处理



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