池田屋 LUCEO鲁机欧 近红外专用偏振片POLAX-32NIR参数介绍
池田屋 LUCEO鲁机欧 近红外专用偏振片POLAX-32NIR参数介绍
POLAX-32NIR近红外专用线性偏振片，专为 780–830nm 波段开发，BK7 玻璃夹层密封，780nm 单体透过率 32%、消光比 10⁴，搭配 808/830nm 红外光源使用。标准 φ10/20/30mm 规格，可组成红外圆偏振光路消除金属反光，适配半导体晶圆、锂电红外检测、近红外激光光路，解决可见光偏振片在红外区间消光不足的痛点。
核心光学规格
适用波段：780～830nm 近红外（适配 808/830nm 主流红外视觉光源、半导体激光）
单体平均透过率：32±3% @780nm，高透光保证红外画面亮度，无需大功率红外光源
消光比：10⁴，正交状态可高效滤除金属镜面红外反光，无可见光偏振片红外端性能衰减缺陷
基材与外形
基板：低应力 BK7 光学玻璃，夹层密封偏振膜，防潮、耐酒精无尘擦拭
标准厚度：2mm；常规规格 φ10/φ20/φ30mm 圆形，支持方形、大尺寸定制
表面镀膜：专属 805V 红外 AR 减反膜，抑制玻璃表面红外杂光反射
结构优势：双层玻璃全包覆，偏振膜不接触空气水汽，百级洁净 FFU 产线 24 小时连续使用不老化、不脱膜。
应用场景
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半导体晶圆红外检测
830nm 红外暗场检测硅片微孔、亚表面划痕、薄膜分层；可见光无法穿透硅基底，近红外偏振成像可捕捉内部微观缺陷，配套 ULVAC 真空镀膜后光学复检。
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新能源锂电红外视觉检测
铜铝极片、铝塑膜、隔膜红外成像；红外光不受涂层色差干扰，偏振滤除金属反光，识别微小孔、褶皱、镀层不均，强光环境不产生过曝。
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激光加工与激光测量光路
780/808nm 半导体激光偏振调控、激光干涉检测、激光测距设备起偏 / 检偏元件，消光稳定，避免激光杂散光干扰测量精度。
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高反光金属零部件红外外观检测
不锈钢、铝合金、连接器、微型阀体红外偏振成像，红外成像不受工件表面彩色镀层干扰，缺陷对比度稳定。