详细介绍
日本Otsuka大塚电子膜厚测厚仪
特殊长度
● 支持从薄膜到厚膜的各种薄膜厚度
● 使用反射光谱分析薄膜厚度
● 实现非接触、非破坏的高精度测量，同时体积小、价格低
● 简单的条件设置和测量操作！任何人都可以轻松测量薄膜厚度
● 通过峰谷法、频率分析法、非线性*小二乘法、优化法等，可以进行多种膜厚测量。
● 非线性*小二乘法薄膜厚度分析算法可以进行光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）。
测量项目
**反射率测量
膜厚分析（10层）
光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）
测量对象
功能膜、塑料
透明导电膜（ITO、银纳米线）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、胶粘剂、保护膜、硬涂层、防指纹， 等等。
半导体
化合物半导体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、蓝宝石等。
表面处理
DLC涂层、防锈剂、防雾剂等。
光学材料
滤光片、增透膜等。
FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机膜、封装材料）等
其他
HDD、磁带、建筑材料等
测量原理
利用光学干涉仪和自有的高精度分光光度计，实现非接触、无损、高速、高精度的薄膜厚度测量。光学干涉测量法是一种使用分光光度计的光学系统获得的反射率来确定光学膜厚的方法。分析方法有四种：峰谷法、频率分析法、非线性*小二乘法和优化法。