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全新现货Otsuka大塚显微分光膜厚仪
产品型号:OPTM-F1
产品简介:

大塚电子核心依托MCPD 多通道分光光谱、显微分光膜厚测量、动态光散射纳米粒径 / Zeta 电位检测三大核心技术,主营显微分光膜厚仪、在线嵌入式膜厚检测系统、分光测色亮度设备、ELSZ 纳米粒度电位分析仪、三维光场显微镜,实现非接触、非破坏、微区高速光学检测

详细介绍


日本 Otsuka大塚显微分光膜厚仪 OPTM-F1

    OPTM-F1 是大塚电子(OTSUKA)OPTM系列中的一款固定框架型显微分光膜厚仪。它是一款高性价比的膜厚测量解决方案,专为需要集成到客户自有系统或产线中的场景而设计

OPTM-F1的核心特点是其“固定框架型”设计。与自带样品台的自动XY平台型(如OPTM-A1)不同,它作为一个独立的测量头,可以更灵活地集成到用户现有的设备、产线或定制化系统中。这使其非常适合:

  • 系统集成商:将膜厚测量功能嵌入到自有设备中。

  • 产线升级:为现有生产线增加在线或离线膜厚检测能力。

  • 特定应用定制:针对特殊样品或测量环境进行二次开发。

规格参数

项目 规格参数
型号 OPTM-F1
类型 固定框架型 (Fixed Frame Type)
测量原理 分光干涉法 (显微光谱反射率)
波长范围 230 - 800 nm
膜厚测量范围 1 nm ~ 35 μm (以SiO₂换算)
测量光斑大小 Φ10 μm (*小可至约 Φ3 μm)
单点测量时间 1秒以内
膜厚精度 0.1 nm
可测层数  50层 
可测参数 膜厚、折射率 n、消光系数 k
  1. 非接触、非破坏测量:采用光学方法,不会对样品造成任何损伤

  2. 高速测量:单点对焦加测量在1秒内完成,适合批量检测或在线监控

  3. 高精度与高再现性:能够高精度地测量紫外到近红外波段的反射率

  4. 强大的分析能力

    • 多层膜解析:可一次性分析50层的多层膜结构

    • 光学常数计算:可直接得出薄膜的折射率(n)和消光系数(k)

  5. 易于使用:搭载了“初学者解析模式”,即使是初次使用者也能轻松完成光学常数分析

应用场景

  • 半导体:测量光刻胶、SiO₂、Si₃N₄等薄膜,以及SiC、GaAs等化合物半导体上的膜层

  • 平板显示 (FPD):用于LCD、TFT、OLED等工艺中的彩色光阻、ITO等膜层厚度测量

  • 光学薄膜:测量AR膜(减反射膜)、HC膜(硬涂层)、滤光片等


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