Otsuka大塚电子微分光膜厚仪   OPTM-A2

OPTM-A2 属于OPTM-A 全自动 XY 平台系列显微分光膜厚计，是可见光 + 短波近红外通用机型，主打显示面板、光学薄膜、常规半导体晶圆微区无损测厚，支持整片晶圆自动 Mapping 扫描，替代传统椭偏仪，兼顾实验室研发与批量离线质检。

1. φ3μm 超微光斑，微小像素 / 线路精准测量

   *小 3μm 聚焦光斑，可测量 Mini/Micro LED 像素、TFT 微线路、窄条涂层，规避大面积光斑采集周边杂膜干扰。
2. 全自动 XY 平台，整片晶圆 / 面板 Mapping 无人值守

   自定义网格点位批量扫描，自动生成全片厚度分布云图，一键导出均匀性报告；内置防撞传感器，防止撞片损伤样品。
3. 透明基板专用算法，消除背面反光干扰

   玻璃、PET、柔性薄膜无需遮挡背面即可稳定测量，解决普通光谱仪透明基底数据漂移问题。
4. 简易智能分析软件

   自带分析向导、标准薄膜材质数据库，内置宏程序自定义测量流程，批量运算，一键导出厚度、光谱、光学常数报告，便于品质追溯归档。
5. 纯卤素灯光源，维护成本更低

   无氘灯耗材，使用寿命更长，适合工厂长期高频使用。

规格概览

1. 参数项目	OPTM-A2 参数
   光谱测量波段	360 ~ 1100 nm（可见光 + 短波近红外）
   SiO₂等效膜厚量程	7 nm ~ 49 μm
   单点测量速度	≤1 秒 / 点（自动对焦 + 光谱拟合完成）
   可选测量光斑	φ5/φ10/φ20/φ40μm，*小 φ5μm 微区精准测量
   探测系统	可见光 CCD + 近红外 InGaAs 双复合探测器
   光源配置	长效卤素单光源（无紫外氘灯，耗材成本低）
   可解析膜层	单层 / *多 50 层多层薄膜同步拟合运算
   测量精度	厚度重复精度≤±0.1 nm，同步输出 n/k 光学常数
   标准样品承载	*大 200×200mm 基板 / 8 英寸晶圆，样品厚度≤17mm
   XY 自动平台行程	200×200mm，微米级重复定位精度
   输出检测数据	膜厚、折射率 n、消光系数 k、反射光谱、全域 3D 厚度云图、统计报表
   整机外形尺寸	556(W)×560(D)×680(H) mm
2. 标配附件

膜厚仪主机

电源线

使用说明书

适配场景

标准校准片

偏振光学测量模块