Otsuka大塚电子微分光膜厚仪   OPTM-A1

OPTM-A1 属于OPTM-A 自动 XY 平台系列显微分光膜厚计，搭载深紫外 - 可见光 230~800nm光谱系统，是半导体、晶圆、光刻胶制程专用微区无损薄膜检测设备，可替代传统椭偏仪，支持整片晶圆自动 Mapping 多点扫描检测。

1.φ3μm 极小光斑，微区图形精准测量
针对晶圆微小线路、芯片微结构、显示像素区单点检测，避开周边基底干扰，适合先进制程微小区域取样。
2. 无损非接触检测，不损伤样品

纯光学反射干涉原理，无探针压痕、无化学腐蚀，可重复测试贵重晶圆、光学基板。
3. 全自动 Mapping 批量检测，量产研发两用
200mm 大行程 XY 平台，整片晶圆自动多点扫描，快速输出膜厚均匀性数据，兼顾实验室研发与中试制程管控。
4. 多层膜同步解析，同步输出 n/k 光学常数
*多拟合 50 层复合涂层，同时得到厚度、折射率、消光系数，完整评价薄膜光学特性，替代昂贵小型椭偏仪。
5. 操作门槛低，自动化程度高
内置材料数据库与拟合向导，无需深厚光学专业知识即可完成测试；支持程序宏批量自动化测试。

规格概览

1. 项目	OPTM-A1 参数
   光谱波段	230 ~ 800 nm（深紫外 + 可见光）
   可测膜厚区间	1 nm ~ 35 μm（SiO₂等效厚度）
   测量光斑	标准 10μm，*小可达 φ3μm（微图案专用）
   单点测量速度	≤1 秒 / 点，高速批量检测
   感光元件	CCD 检测器
   光源	氘灯（紫外）+ 卤素灯（可见光）
   载台规格	全自动电动 XY 平台，*大支持 200×200mm 晶圆
   测量精度	厚度准确度 ±0.2%，重复性 0.1nm 级
   多层膜解析	*多同时拟合 50 层复合薄膜
   适用基底	硅片、石英、玻璃、金属、透明 / 半透明基板
2. 标配附件

膜厚仪主机

电源线

使用说明书

适配场景

标准校准片

偏振光学测量模块