G5 型废气处理系统是一种燃烧式废气处理系统，能够高效处理制造过程中使用的各种气体。它可以同时处理多种气体，从而高效处理通常难以处理的 PFC 气体。该系统采用独特的副产物处理措施，并根据待处**体的类型和数量进行按需（可变燃料供应）运行，从而降低运行成本。它非常适合用于半导体、液晶面板、太阳能电池和 LED 等电子元件制造商、化工和材料制造商以及各类研究实验室。此外，还提供*大流量为 1200

详细介绍

规格


模型	单元	G5-350 A1~A4/P1~P4	G5-500 A1~A4/P1~P4	G5-600 A1~A4/P1~P4	G5-1200 A1~A4/P1~P4
加工方法		燃烧型+湿式	燃烧型+湿式	燃烧型+湿式	燃烧型+湿式
*大允许流入气体量	升/分钟	350	500	600	1200
燃料		城市燃气/丙烷燃气选择	城市燃气/丙烷燃气选择	城市燃气/丙烷燃气选择	城市燃气/丙烷燃气选择
尺寸	宽 x 深 x 高毫米	1200 x 650 x 1900	1200 x 650 x 1900	1200 x 1100 x 2000	1200 x 1100 x 2200
可处理的气体示例		工艺（沉积）气体：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。通用清洗气体： NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。通用蚀刻气体： HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。全氟化合物：CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。	工艺（沉积）气体：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。通用清洗气体： NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。通用蚀刻气体： HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。全氟化合物：CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。	工艺（沉积）气体：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。通用清洗气体： NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。通用蚀刻气体： HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。全氟化合物：CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。	工艺（沉积）气体：SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等。通用清洗气体： NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。通用蚀刻气体： HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。全氟化合物：CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
标准配置		用于**粉末的燃烧器刮刀	用于**粉末的燃烧器刮刀	用于**粉末的燃烧器刮刀	用于**粉末的燃烧器刮刀
选项		城市水和废水使用减少单元	城市水和废水使用减少单元	城市水和废水使用减少单元	城市水和废水使用减少单元