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池田屋ORC欧阿希 PPS-8200p1半导体曝光设备
产品型号:PPS8300p1
产品简介:

池田屋ORC欧阿希 PPS-8200p1半导体曝光设备 池田屋ORC欧阿希 PPS-8200p1半导体曝光设备 宽带曝光(自动切换配方GHI线、GH线、I线联动) 配备变量NA功能(0.16和0.1变量) 标线设计格式*多 8 个区域 光学系统免受周围环境中的抗蚀剂脱气和化学物质的影响

详细介绍

 池田屋ORC欧阿希 PPS-8200p1半导体曝光设备

 池田屋ORC欧阿希 PPS-8200p1半导体曝光设备


产品规格

规格

模型 PPS-8200p1/8300p1
晶圆尺寸 6/8/12英寸
解决 2.0 µmL/S(2.0 µm 抗蚀剂厚度)
NA(数值孔径) 0.16、0.1 变量
减速比 1:1
场地大小 52毫米×33毫米
曝光波长 ghi-Line gh-line i-line(食谱链接)
标线尺寸 6寸
叠加精度 ≤0.5 µm(|平均|+3σ)
设备尺寸/重量 (宽)2,260 x (深)3,460 x (高)2,500mm / 5,500kg
主要选项 背面对准系统
晶圆周边曝光系统
晶圆周边非曝光系统
薄晶圆输送系统
兼容GEM通信
内联兼容
兼容各种应用

兼容WL-CSP、IGBT、CIS等6/8/12英寸光刻机


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