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新品Osaka Vacuum大阪真空通用分子泵 TG443
产品型号:STC70FR005
产品简介:

新品Osaka Vacuum大阪真空通用分子泵 TG443 新品Osaka Vacuum大阪真空通用分子泵 TG443

详细介绍

新品Osaka Vacuum大阪真空通用分子泵 TG443

新品Osaka Vacuum大阪真空通用分子泵 TG443


  • 全级螺旋槽(螺纹槽)结构
  • 能够在中、低真空区域排出大量气体
  • 可承受超过30万次大气层再入
  • **标准:NRTL/SEMI-S2/CE

目的

  • 半导体制造
  • 电子枪排气、离子源排气
  • 表面处理、表面改性
  • 各种电子零件制造
  • 管材制造、光学零件制造
  • 加速器、辐射设施、核聚变研究
  • 热处理
  • 研究与开发

进气法兰 VG150
CF160
ISO-B160
抽速 氮气 升/秒) 第440章
2 (带保护丝网) (L/s) 410
H2  升/秒) 320
*大压缩比 N2 2× 106
H2 1×10 3
*大气体流量*1、*2 氮气( sccm  ) 10860
启动时间 (分钟) 10~14
停止时间  (分钟) 23~28
极限压力*3 (帕) < 1×10 -5
(托尔) < 7.5×10 -8
允许辅助压力 (帕) 2000年
(托尔) 15
推荐辅助泵 (升/分钟) ≧500
安装位置 直立(±10°)
大量的 (公斤) 60

 

*1: 1Pa·L/s (25℃) = 0.543sccm (0℃, 1 atm)
*2: 排气口辅助排气速度为160L/min时的值。
*3:烘烤48小时后获得的值。



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