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原厂Osaka Vacuum大阪真空通用分子泵 TGkine4200MI-B
产品型号:TGkine4200MI B
产品简介:

原厂Osaka Vacuum大阪真空通用分子泵 TGkine4200MI-B 原厂Osaka Vacuum大阪真空通用分子泵 TGkine4200MI-B

详细介绍

原厂Osaka Vacuum大阪真空通用分子泵 TGkine4200MI-B

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反应生成物对策型TGkineMI-B系列

  • 反应生成物对策型TGkineMI-B系列

该系列针对反应产物容易积聚的设备,采用了我们独特的隔热结构/自加热机制,显着降低了反应产物积聚率。

 

  • 传统磁力轴承式涡轮分子泵反应产物的对策


对包括目标区域在内的整个周围区域进行加热的方法。它无法被有效地使用。
・目标区域外的热效应

  • 使用TGkineMI-B系列的对策

除了通过外部加热器提高温度外,还有效利用泵内部与吸入气体产生的摩擦热,有效提高与气体接触部分的温度
并抑制外部加热器的输出,提高节能效果! !
- *大限度地减少对主要部件的热影响并减少对泵的损坏。
・维持*佳温度,防止排气管内生成产物。

 

目的

  • 半导体、FPD、MEMS制造等蚀刻设备
  • 容易产生反应产物的工艺设备



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