全新Osaka Vacuum大阪真空通用分子泵TG420ML
半导体制造正朝着进一步小型化和更高集成度的方向发展。同时，也要求分析、测量和检验过程具有更高的精度和更高的性能。即使控制技术进步，如果为了进行微观区域的微细加工、测量和分析而使设备产生振动，那也是没有意义的。因此，对真空泵的减振提出了强烈的要求。
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