以日本精工，守护纳米级良率
——KFU2-10H 琴平半导体洁净室空气过滤器

    当半导体制程迈向 2 纳米、1 纳米时代，洁净室空气中一粒 0.1μm 的微尘，就可能毁掉整片晶圆。Kotohira琴平 KFU2-10H 超高效空气过滤器，专为半导体洁净环境而生，以日本原厂制造的洁净与可靠稳定性，为光刻、蚀刻、薄膜沉积等核心工艺区筑起一道纯净防线。

    KFU2-10H 并不是一台普通的 FFU，它是琴平工业针对半导体晶圆厂高洁净度、高气流量与低能耗需求，全新定制的风机过滤单元。整机在日本完成组装与逐台检测，确保每一台都达到 SEMI 标准与 ISO 14644-1 *高洁净等级要求。

• 型号标识：KFU2 系列第 10 规格，H 代表适配超高洁净度（ULPA 级）

• 适用场景：半导体洁净室（Class 1~100），特别是黄光区、CMP、离子注入等关键制程区域

• 安装方式：标准洁净室天花龙骨集成，支持 MAU+FFU 或内循环系统架构

① 99.9995% @ 0.1μm 超高效滤除
搭载琴平自主研发的高密度 PTFE 或超细玻纤 ULPA 滤芯，对 0.1μm 微粒的捕集效率达到 99.9995% 以上（遵循 EN 1822-1 / IEST-RP-CC001），连气态分子污染物（AMC）的前驱体也能通过可选化学滤材有效吸附，从源头杜绝微污染。

② 极低压力损失，能耗直降 30%
采用微米级梯度结构滤纸与优化打折工艺，初始压损相比上一代降低 15% 以上，搭配高效率 DC 无刷离心风扇，整机功耗大幅下降。在 24 小时不间断运行的洁净室里，每年节省的电力成本非常可观。

③ 均匀层流，零涡流死角
KFU2-10H 的风道与均流膜经过流体仿真优化，出风面风速均匀性 ≤ ±5%。气流垂直下压无紊流，能快速带走悬浮微粒，杜绝晶圆表面的再沉积风险。

④ 低振动、低噪音，不干扰超精密工艺
采用平衡精度达 G2.5 等级的动平衡叶轮与多重减振结构，本体振动值 ≤ 0.3 mm/s，运行噪音低至 50 dB(A) 以下。即使安装于光刻机正上方，也不会因微振动影响纳米级图形的套刻精度。

⑤ 长寿命与快速更换设计
滤芯采用防潮耐化学腐蚀的密封边框，在连续运行条件下滤芯寿命可达 5~8 年。标准化模块尺寸配合快拆扣锁，单人即可在洁净室内完成更换，大幅度缩短维护停機时间。

    琴平工业（Kotohira Industry）创立于日本香川县琴平町，五十余年来只专注于空气净化与微环境控制技术。从早期超净工作台到如今的 ULPA 过滤单元，琴平一直是多家全球半导体设备商和晶圆厂的指定洁净伙伴。每一片 KFU2-10H 滤器出厂前，均经过 100% 粒子计数扫描检漏，并提供可追溯检测报告，让品质毫无保留地呈现

    选择 KFU2-10H，不仅是在选择一款高性能过滤器，更是导入了一套经过量产验证的洁净空气供给基准。无论是新建 12 英寸晶圆厂、改造洁净室提升洁净等级，还是为旧线 FFU 升级替代，琴平 KFU2-10H 都能无缝集成，快速交付。